二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。二氧化硅抛光液广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
　　根据不同的抛光要求可分为不同粒度（10~150nm）的产品。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。
　　二氧化硅抛光液应用领域
　　1、光通讯领域，配合公司专门为光纤连接器开发的抛光产品，能达到超精细抛光效果，抛光后连接器端面没有划伤和缺陷，3D指标和反射衰减指标达到国际标准。
　　2、硬盘基片的抛光，SiO2磨料呈球形，具有粒度均匀、分散性好、平坦化效率高等优点。
　　3、硅晶圆、蓝宝石等半导体及衬底材料的粗抛和精抛，具有抛光速率高，抛光后易清洗，表面粗糙度低，能够得到总厚偏差（TTV）极小的质量表面。
　　4、其他领域的应用，如不锈钢、光学玻璃等领域，抛光后能达到良好的抛光效果