光学清洗剂是一款效率的电子清洗剂，能快速清洗干净油污，油脂，污垢，顽固污渍及去除静电。主要应用于电子行业的清洗。产品成份　　表面活性剂，纯水等。性能特点　　对电子产品的表面无腐蚀，氧化等现象。除油速度快，彻底，不留痕迹。溶解性好，安全无毒，效率环保。使用方便快捷，提高工作效率。技术指标　　①外观无色透明至淡黄色透明液体　　②气味无　　③使用浓度原液　　④使用温度常温　　⑤使用时间5-10minute　　⑥工艺条件常温浸泡或超声波常温清洗5-10minute。　　注意事项　　若不慎溅入眼睛，即用清水或生理盐水冲净；禁止食用。

　　3C产品表面镜面抛光一般不采用电解抛光方式，而是选择CMP机械抛光工艺。SiO2抛光液用于3C工件的镜面抛光工艺，主要由纳米级磨料制备而成，规格一般在10nm-150nm抛光后的产品镜面精度高，表面收光细腻。　　氧化硅精抛液进行精抛工艺后，工件可以从雾面提升到镜面透亮的效果。抛光液配合精抛皮使用，镜面效果检测可达纳米级。3C金属抛光液用于镜面要求较高的工件抛光，因此必须做好前道工序。先粗抛打好基础，再精抛去除缺陷和不良效果。　　有客户使用二氧化硅抛光液后工件表面会产生麻点，这是由于硅溶胶浆料腐蚀造成的。所以建议大家选择无腐蚀性的二氧化硅浆料，吉致电子25年抛光液生产厂家，致力于半导体、金属、3C产品、硅晶圆、光学晶体CMP抛光工艺的研究和创新，欢迎咨询更多CMP抛光液知识！

　　蓝宝石之所以被看好，除了有苹果的助推外，最主要靠的还是自己。工业上，蓝宝石一般是指除中等到暗红色至紫红色之外的其他颜色透明的刚玉晶体，其化学成分为Al2O3，属α-Al2O3变体，纯净时为无色透明，熔点为2030℃，沸点为3500℃，具有高表面平滑度、高电阻率及高介电性能。这些优良的光学、力学、热学、化学及电学性能决定了蓝宝石在军事及民用领域中的重要地位和作用。　　①耐磨损性：由于具有很高的硬度和透明度，是蓝宝石晶体常用于制作耐磨损窗口或其他精密机械零件。　　②化学稳定性：蓝宝石具有高度的化学稳定性，在绝大多数化学反应过程中不会被腐蚀。　　③机械特性：蓝宝石单晶因其高硬度和高强度，可以在温度范围从超低温至1500℃高温之间的不同环境中保持高强度、耐磨耗与高度的稳定性。同时是目前已知的硬度最高的氧化物晶体材料，仅次于金刚石达莫氏9级。　　④光学透过率：蓝宝石单晶材料的穿透波长范围为0.19nm~5.5nm，加之其优异的化学稳定性，抗磨损，高硬度和耐高温等特性，使蓝宝石制作的窗口片和传感器光学零件广泛应用于高真空系统、高温炉及其他苛刻的环境。　　⑤热力学特性：2050℃左右的熔点，加之优越的化学、机械及光学特性，使蓝宝石晶体广泛应用于许多苛刻的加工环境中。　　⑥介电性能：有电介质绝缘、恒定的介电常数。　　⑦蓝宝石还具有高拉伸强度、抗冲刷性、热导性、显著的抗热冲击性等性能。

　　金钢线线具有诸多优点：　　1.可实现高速切割，切割速度可以提高到原来的2倍，耗时自然减少。单位时间能够完成更多的工作量，这是它较大的优势。　　2.环保生产，金钢线的切割工艺中只需要水或是水基冷却清洁液就可以，真正实现了环保生产和制造。但是目前的金刚线技术也还很多的不足，主要是：　　1.成本高，这还是一个相对较新的技术，还没有达到普及，主要的金刚线依赖进口，我国本土的公司金刚线的供给还比较少，所以价格比较高，金钢石材料价格比较镀铜镀锌材料高很多。　　2.金钢线太粗从而导致硅片损失较大。硅片的损失与切割线的粗细有直接联系，越粗自然损失越多。目前主流的切割线是超精细切割钢丝，直径大约是120um。而在实际应用中的金刚线直径大约是250um，是超精细切割钢丝的两倍多。　　3.会有切痕从而导致晶硅电池片转换效率低下。因此目前金刚石线主要用于硅片的粗加工领域，比如已经在硅锭开方中获得应用。在更精细的切片领域还是用的是超精细切割钢丝。

　　抛光液对大家来说可能是一个很陌生的东西，也不太了解这是用来干什么的，但它与我们的生活其实息息相关。今天就让小编来带大家了解一下到底什么是抛光液，它到底有什么特点。　　1.抛光液具有很好的去油污清洗功能　　抛光液是一种化学产品，对于去油污，清洗，防锈一方面可以发挥很重要的作用，清洗过后会使金属显露出真实的金属颜色。　　2.抛光液可以用来处理材料表面的粗糙度主要靠抛光液中的磨料或者抛光液中的化学成分作用，来使物体表面的粗糙程度降低。在LED行业加工过程中就需要对其产品进行抛光，例如蓝宝石的硬度就非常高，普通磨料很难对其进行加工，这时抛光液就会发挥很大的作用。　　3.抛光液具有无毒不会对环境造成污染的功能　　虽然说抛光液是一种含有化学成分的物品，但制作原料均符合绿色环保要求，所以并不会产生污染和毒气，并且抛光液的性能也是十分稳定的。　　4.抛光液使用起来十分方便抛光液的投放量根据其所需要使用产品多少来确定，投放时间只需要依据产品状态而定，使用抛光液完成后也只需要用清水清洗一下，操作起来非常简单便捷。

　　①温度：温度升高，加强了抛光液化学反应能力，抛光速率增加。但过高的温度会引起抛光液的挥发，以及加快化学反应，表面腐蚀严重，因而会产生不均匀的抛光效果，使抛光质量下降。　　②pH值：抛光液的pH值越高，碱性越强，反应速率越快。但pH值对被抛表面刻蚀、磨料的分解与溶解度、抛光液的稳定性有很大的影响，从而影响材料的去除率和表面质量，因此应严格控制。　　③压力：一般地，压力越大，抛光速率越快。但是压力足够大时，抛光速率会略微下降，原因是压力大，抛光垫承载抛光液能力下降。另外，压力大易形成破片现象。　　④转速：转速增加，会引起抛光速率增加。但转速过高又会使抛光液在抛光垫上分布不均匀，影响抛光质量。　　⑤抛光液浓度：抛光液的浓度增加时，去除率也随之增加，但当磨粒浓度超过某一值时，材料去除率将停止增加，维持一个常数值，这种现象称为去除饱和。而且过高的浓度，有可能造成表面缺陷(划痕)增加，影响表面质量。

　　电子产品的先进制造业的快速发展方向为高精度（纳米级的控制精度，亚纳米级的加工精度）、高性能（T级的储存量和CPU主频）、高集成度（纳米级的线宽）以及可靠性（小于1/109的千小时失效率），因此，对加工工件表面的局部平整度和整体平整度都提出了前所未有的高要求（要求达到亚纳米量级的表面粗糙度），同时对超精密加工技术的水平提出了严峻的挑战。　　表面平整化加工的重要手段是抛光，常见的抛光技术如机械抛光、化学抛光、磁研磨抛光、流体抛光、电化学抛光、离子束轰击抛光、浮法抛光等，均属于局部平坦化技术，且平坦化能力从几微米到几十微米不等，但是国际上普遍认为，加工工件特征尺寸在0.35μm以下时，必须进行全局平坦化，而目前唯一可以提供整体平面化的表面精加工技术就是超精密化学机械抛光技术（CMP）。　　例如在硅晶片的加工过程中，晶片通过吸附作用固定在与其同方向旋转的抛光垫上，抛光浆料通过蠕动泵不断的流到抛光垫上，使之在晶片和抛光垫之间持续流动，晶片表面与抛光浆料发生反应，通过抛光头的高速运动使反应物不断去除，达到使晶片表面平整、光洁度高的作用。　　化学机械抛光技术是化学作用和机械作用相结合的技术，实际上其微观过程相当复杂，影响因素也很多。CMP设备、抛光液、抛光垫、后清洗设备、抛光终点检测设备等等都对晶片的抛光速率和抛光质量产生重要影响。其中抛光液既影响CMP化学作用过程，又影响CMP机械作用过程，是影响CMP质量的决定性因素之一。　　目前国内外常用的抛光液有SiO2胶体（硅溶胶）抛光液、二氧化铈抛光液、氧化铝抛光液、金刚石抛光液等。

　　不同的研磨液对蓝宝石研磨效果不应相同，而且研磨液对蓝宝石晶体研磨效率的提升和表面质量的改善具有一定的良好反应。　　蓝宝石晶体因其优越的物理、光学性能，在LED衬底材料和固态激光发光介质中运用非常广泛，并且将运用到手机面板上。蓝宝石的广泛运用对它的超光滑无损伤的表面研磨抛光技术提出了更高的要求，但蓝宝石因其物理、化学性能比较稳定，在加工上比较艰难。　　在目前的工业上，对于蓝宝石的加工需要采用切片、倒角、研磨、抛光等等工序才能加工完成，其中研磨加工的作用是重中之重，因为研磨是工件获得良好平面度、保证抛光质量和效率的关键。单晶蓝宝石的研磨一般利用逐级减小蓝宝石研磨液中一种磨料的立径，来控制研磨的进给量，来获得较好的表面粗糙度。由于研磨过程中，硬度较大的磨料在工件和研磨盘之间滚轧，容易造成较大的表面损伤层，增加了抛光时间；另外蓝宝石研磨液中磨料利用率低、耗费大、还污染环境。在当前，固结磨料由于可依靠凸起的磨料实现材料的微量切除而成为了效率低损伤加工的有效手段。　　在固结磨料加工中，研磨抛光液的化学作用也不容忽视。在利用固结磨料抛光硅衬底中，比较了不同抛光液对材料去除率和表面质量的影响，发现抛光液组分和pH值得改变对抛光效果具有较大影响，从而可以推断抛光液与工件表面具有一定的化学作用。　　抛光液中存在一种化学物质可以软化水晶玻璃的表面表层，从而有利于材料的抛光速率的提高。但由于蓝宝石的高化学稳定性，在详细的报告中并没有蓝宝石晶片研磨过程中蓝宝石研磨液起到的化学作用。　　不同研磨液对单晶蓝宝石的研磨抛光效果是不一样的，其中起到的微妙化学作用在无形中影响着蓝宝石晶片的抛光效率和表面损伤度。

　　线切割机床（WirecutElectricalDischargeMachining简称WEDM），属电加工范畴，线切割机也于1960年发明于前苏联，其基本物理原理是自由正离子和电子在场中积累，很快形成一个被电离的导电通道。　　线切割机床是由前苏联拉扎林科夫妇研究开关触点受火花放电腐蚀损坏的现象和原因时，发现电火花的瞬时高温可以使局部的金属熔化、氧化而被腐蚀掉，从而开创和发明了电火花加工方法。　　数控线切割机床由机械、电气和工作液系统三大部分组成。　　机械　　线切割机床机械部分是基础，其精度直接影响到机床的工作精度，也影响到电气性能的充分发挥。机械系统由机床床身、坐标工作台、运丝机构、线架机构、锥度机构、润滑系统等组成。机床床身通常为箱式结构，是提供各部件的安装平台，而且与机床精度密切相关。坐标工作台通常由十字拖板、滚动导轨、丝杆运动副、齿轮传动机构等部分组成。主要是与电极丝之间的相对运动，来完成对工件的加工。运丝机构是由储丝筒、电动机、齿轮副、传动机构、换向装置和绝缘件等部分组成，电动机和储丝筒连轴连接转动，用来带动电极丝按一定线速度移动，并将电极丝整齐地排绕在储丝筒上。线架分单立柱悬臂式和双立柱龙门式。单立柱悬臂式分上下臂，一般下臂是固定的，上臂可升降移动，导轮安装在线架上，用来支撑电机丝。锥度机构可分摇摆式和十字拖板式结构，摇摆式是上下臂通过杠杆转动来完成，一般用在大锥度机。十字拖板型通过移动使电极丝伸缩来完成，一般适用在小锥度机。润滑系统用来缓解机件磨损、提高机械效率、减轻功率损耗。可起到冷却、缓蚀、吸振、减小噪音之作用。　　电气　　电气部分包括机床电路、脉冲电源、驱动电源和控制系统等组成。机床电路主要控制运丝电动机和工作液泵的运行，使电极丝对工件能连续切割。脉冲电源提供电极丝与工件之间的火花放电能量，用以切割工件。驱动电源也叫驱动电路，由脉冲分配器、功率放大电路、电源电路、预放电路和其它控制电路组成。是提供电源给步进电机供电的专用电源，用来实现对步进电机的控制。控制系统主要是控制工作台拖板的运动（轨迹控制）和脉冲电源的放电（加工控制）。　　工作液系统　　工作液系统一般由工作液箱、工作液泵、进液管、回液管、流量控制阀、过滤网罩或过滤芯等组成。主要作用是集中放电能量、带走放电热量以冷却电极丝和工件、排除电蚀产物等。

　　　说到打磨就不得不提到各式各样的抛光液，比如大家在市场中常见到的金刚石抛光液、多晶氧化铝抛光液、研磨抛光液等。今天带大家了解一下研磨抛光液，那么研磨抛光液是什么，有什么作用呢？小编就和大家一起来认识和探讨一下。　　　其实目前市场中的研磨抛光液主要是用于机械作用研磨和化学机械研磨的工艺中，是以金刚石、B4C作为研磨材料添加分散剂等分散在液体介质中，形成具有研磨作用的液体，这被称为金刚石研磨液或碳化硼研磨液。当然在工作中研磨液的研磨材料也会在分散液中悄然分布，因为是磨料硬度比待磨工件硬度大，所以在研磨、减薄等工艺中不会留下划痕，当大家粗磨时一般使用研磨液，当需要进行精磨时就会选择化学机械作用的研磨液了。　　今天小编为大家介绍的研磨抛光液就是用于用于精磨的研磨液。其实它是利用磨损工作中软磨的原理来进行工作的。其实就是利用较为软糯的材料进行抛光工艺，从而实现细致无痕近乎完美的抛光面。并且借助超微粒子的研磨作用加上化学腐蚀作用，形成光洁平坦的表面。　　当然在研磨抛光液的选择中，面对市场中鱼龙混杂的品牌，很难让消费者做出正确的选择，小编认为，最好的选择则是认清品牌实力。品牌实力说的直接一些就是产品的品质，就像人们愿意追求大牌名牌一样，在研磨抛光液的选择中，也应该紧跟大牌的脚步。而杰盛达就是用户需求的一个品牌。