线切割液一般具有良好的冷却、润滑、清洗和防锈的功能，还具有其他的特殊性能：有一定的电介强度、去游离、灭弧、防止断丝和使用寿命长、安全无毒等。用合适的线切割液可获得理想的加工光洁度和加工效率，并能延长机床的使用寿命。优点　　一.优良的防锈性能（防锈时间三个月以上）　　二.溶液碧绿透明，具有良好的可见性，特别适合线切割快走丝，慢走丝等现代加工设备上使用。　　三.环保配方：不含氯、三嗪、二级胺、芳香烃、亚硝酸钠等对人体有害成份，对皮肤无刺激性，对操作者友好。　　四.线切割液变质发臭控制：精选进口添加剂，抗菌性极强，在中央系统或单机油槽中都有很长的寿命（一年以上不发臭变质）　　五.低泡沫：较好的抗泡性，可用于高压系统及要求高空气释放性的操作条件，软硬水适用。　　六.润滑性：配方中含有独特的表面活性剂，乳化剂。润滑性能高，明显降低钼丝成本，提高表面加工精度，表面质量。可替代切削油使用，为操作者创造良好的环境。　　七.沉屑性：排油性配方具有良好的沉屑性，提供切削屑及切削细分的快速沉降，维持系统清洁及容易清洗排除污染物，浮油很快在切削液的液面上完全分离。　　八.冷却性和冲洗性：良好的冷却性和清洗性，保持机床和工件的清洁，减少粘性物残留。　　九.高浓缩型：用水稀释20-30倍，可正常使用。

　　二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。二氧化硅抛光液广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。　　根据不同的抛光要求可分为不同粒度（10~150nm）的产品。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。　　二氧化硅抛光液应用领域　　1、光通讯领域，配合公司专门为光纤连接器开发的抛光产品，能达到超精细抛光效果，抛光后连接器端面没有划伤和缺陷，3D指标和反射衰减指标达到国际标准。　　2、硬盘基片的抛光，SiO2磨料呈球形，具有粒度均匀、分散性好、平坦化效率高等优点。　　3、硅晶圆、蓝宝石等半导体及衬底材料的粗抛和精抛，具有抛光速率高，抛光后易清洗，表面粗糙度低，能够得到总厚偏差（TTV）极小的质量表面。　　4、其他领域的应用，如不锈钢、光学玻璃等领域，抛光后能达到良好的抛光效果

　　现在对中小型工件的表面处理方面，都采用机械代替人工的方法，包括金属和非金属工件。所以在速度上有了很大的提高，在质量上也有了更高的要求。速度的提高原因是能大批量地进行高速处理，质量的提升是它能使每个工件的每个面都能达到抛光均匀，哪怕是较复杂形状的工件都同样能做到表面和凹槽一致的光亮平滑。　　在机械研磨抛光中，主要的设备为研磨抛光机，它包括离心研磨抛光机、涡流研磨抛光机、振动研磨抛光机、磁力研磨抛光机等等，它们都能做到使工件表面处理出完美效果的作用。既然我们使用机械抛光处理能有这么多的好处，但我们还得尽最大的努力使研磨抛光的效率更高，质量更好。　　要使研磨抛光机能达到最好的工作效率，选料很是重要的一个方面，选料指的是按工件的材质、形状和规格，选择最适合它的研磨材料进行工件的表面抛光处理。也就是在对工件进行研磨抛光前按工件和抛光研磨材料的特点，制订好适合工件表面研磨抛光并能达到较好效果的材料，进行研磨抛光处理。　　首先要确定的是研磨抛光磨料，它是工件表面研磨抛光处理的主要介质，所以选择合适研磨抛光磨料才是决定工件表面处理的主要因素。那么就要在工件研磨抛光前制订好使用材料的操作方式和方案计划，并确定好制定抛光研磨液、研磨光亮剂的品种。　　一般对工件的表面抛光处理分三步进行，即粗抛、细抛和镜面抛光。选择好好研磨抛光磨料、抛光研磨液、研磨光亮剂等的规格、品种。粗抛光时使用粗抛光的抛光磨料，使用适合工件特点的抛光研磨液。细抛光时使用细抛光的磨料。精抛光时使用表抛光的抛光磨料，并且选择好相应的研磨光亮剂。才能使机械研磨抛光发挥尽善尽美的效果。

　　光学清洗剂是一款效率的电子清洗剂，能快速清洗干净油污，油脂，污垢，顽固污渍及去除静电。主要应用于电子行业的清洗。产品成份　　表面活性剂，纯水等。性能特点　　对电子产品的表面无腐蚀，氧化等现象。除油速度快，彻底，不留痕迹。溶解性好，安全无毒，效率环保。使用方便快捷，提高工作效率。技术指标　　①外观无色透明至淡黄色透明液体　　②气味无　　③使用浓度原液　　④使用温度常温　　⑤使用时间5-10minute　　⑥工艺条件常温浸泡或超声波常温清洗5-10minute。　　注意事项　　若不慎溅入眼睛，即用清水或生理盐水冲净；禁止食用。

　　3C产品表面镜面抛光一般不采用电解抛光方式，而是选择CMP机械抛光工艺。SiO2抛光液用于3C工件的镜面抛光工艺，主要由纳米级磨料制备而成，规格一般在10nm-150nm抛光后的产品镜面精度高，表面收光细腻。　　氧化硅精抛液进行精抛工艺后，工件可以从雾面提升到镜面透亮的效果。抛光液配合精抛皮使用，镜面效果检测可达纳米级。3C金属抛光液用于镜面要求较高的工件抛光，因此必须做好前道工序。先粗抛打好基础，再精抛去除缺陷和不良效果。　　有客户使用二氧化硅抛光液后工件表面会产生麻点，这是由于硅溶胶浆料腐蚀造成的。所以建议大家选择无腐蚀性的二氧化硅浆料，吉致电子25年抛光液生产厂家，致力于半导体、金属、3C产品、硅晶圆、光学晶体CMP抛光工艺的研究和创新，欢迎咨询更多CMP抛光液知识！